[发明专利]一种生物活性纳米晶β‑Ta涂层的制备方法在审
| 申请号： | 201610432221.5 | 申请日： | 2016-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN106048548A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 徐江;刘林林;蒋书运 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/16 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 齐棠 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种生物活性纳米晶β‑Ta涂层的制备方法，采用双阴极等离子溅射沉积方法制备生物活性纳米晶β‑Ta涂层，具体的工艺参数如下：靶材电压700~1000 V,工件电压250~350 V，靶材与工件间距10~20 mm,工作气压25~40 Pa，沉积温度600~900 ℃，沉积时间 1.0~2.0 h. 溅射靶材的种类：纯度为>99.9%的商用纯Ta；工件材料的种类：医用钛合金植入材料。本发明制备得到的纳米晶β‑Ta涂层具有高硬度、高韧性以及优异的腐蚀抗力和磷灰石诱导能力，能明显提高医用钛合金的耐磨性、抗腐蚀性能和生物活性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生物 活性 纳米 ta 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种生物活性纳米晶β‑Ta涂层的制备方法，其特征在于：采用双阴极等离子溅射沉积技术，在工件表面形成致密均匀无缺陷的纳米晶β‑Ta涂层，其中a.双阴极等离子溅射沉积工艺参数：靶材电压为700~1000 V，工件电压为250~350 V，靶材与工件间距为10~20 mm，Ar气压为25~40 Pa，沉积温度为600~900 ℃，沉积时间为1.0~2.0 h；b.溅射的靶材种类：商用纯Ta；c.工件材料的种类：医用钛合金。
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