[发明专利]一种超多程放大系统激光光束质量控制方法

摘要

本发明涉及一种超多程放大系统激光光束质量控制方法，属于激光设备技术领域，包括测量放大腔内部像差，并对所述内部像差进行校正；测量全光路像差，并对所述全光路像差进行校正，本发明采用分步方式进行像差校正，与现有技术中一步校正式相比，能够有效避免多程放大像差积累问题，取得最优化的波前校正效果，适用于超多程放大激光光束质量控制。

主权项

1.一种超多程放大系统激光光束质量控制方法，其特征在于：包括以下步骤：S1：测量放大腔内部像差，并对所述内部像差进行校正；S2：测量全光路像差，并对所述全光路像差进行校正；所述放大腔的外部设置波前探测器，对放大腔内部像差、全光路像差进行测量，所述放大腔的内部设置波前校正器，对放大腔内部像差、全光路像差进行校正；所述内部像差采用分步方式进行测量、校正，具体方法如下：(1)通过波前探测器测量放大腔外部的光路像差，并记作W1；(2)控制放大系统为双程放大状态，测量双程放大全光路像差，记作W2，则W2‑W1为双程放大腔内像差，利用波前校正器进行波前闭环校正，得到双程校正电压U2；(3)控制放大系统为四程放大状态，对波前校正器施加校正电压U2后，测量四程放大全光路像差，记作W4，则W4‑W1为四程放大腔内像差残差，利用波前校正器进行波前闭环校正，得到四程校正电压U4；以此类推，直至放大系统为n程放大状态时，对波前校正器施加校正电压Un‑2后，测量n程放大全光路像差，记作Wn，其中，n为放大系统放大程数的最大值，n为偶数且n＞2，Un‑2为放大系统的放大程数为n‑2时的校正电压，则Wn‑W1为n程放大腔内像差残差，利用波前校正器进行波前闭环校正，得到n程校正电压Un；所述全光路像差的校正方法为：将标定光直接注入波前探测器，得到测量光路像差W0，控制放大系统为n程放大状态，对波前校正器施加校正电压Un后，测量全光路像差，记作W，则W‑W0就是全光路像差残差，利用波前校正器进行波前闭环校正，得到全光路校正电压U。