[发明专利]一种纳米压印设备用光刻胶在审
| 申请号： | 201610429964.7 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN106125502A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 王晶 | 申请（专利权）人： | 无锡英普林纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙) 32268 | 代理人： | 许希富 |
| 地址： | 215000 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印设备用光刻胶，一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：有机小分子溶剂60‑80份、环氧树脂30‑50份、交联剂1‑5份、稳定剂1‑3份、纳米二氧化硅10‑15份、纳米氧化铝10‑15份、光引发剂1‑5份、光聚合单体1‑2份、助剂1‑3份。本发明具有表面性能稳定，提高脱模效果，提高压印精度，减少压印缺陷的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 备用 光刻 | ||
【主权项】：
一种纳米压印设备用光刻胶，其特征在于：所述一种纳米压印设备用光刻胶按重量份数计，其组成为：![]()
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