[发明专利]一种微纳米标准样板及其循迹方法有效
| 申请号： | 201610401901.0 | 申请日： | 2016-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN105865389B | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 雷李华;邵力;李源;魏佳斯;蔡潇雨;傅云霞;张波 | 申请（专利权）人： | 上海市计量测试技术研究院;上海计测工程设备监理有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/04 | 分类号： | G01B21/04 |
| 代理公司： | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 | 代理人： | 陈志良 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 标准 样板 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微纳米标准样板的循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识， 所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。
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