[发明专利]一种中子源在审

专利信息
申请号: 201610397587.3 申请日: 2016-06-07
公开(公告)号: CN105869693A 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 何小海;李彦;唐君;娄本超;薛小明;牟云峰;李小飞;胡永宏 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
主分类号: G21G4/02 分类号: G21G4/02
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 翟长明;韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种中子源,所述中子源采用多孔离子源,引出有特定形状及密度分布的氘离子或氘氚混合离子。每个引出孔都有对应的初始聚焦电极和加速电极,离子束完成加速后,经过电四极场,在Z方向上聚焦至所需要的小尺寸,同时在Y方向上散焦展开到一定长度,形成扇形离子束。扇形离子束轰击到移动靶上,在Y方向上,产生与小尺寸焦斑点状中子源等效的出射中子束。本发明的中子源适合应用于中子治疗、照相、爆炸物检测等对中子束有方向性和点源特性要求的领域。
搜索关键词: 一种 中子源
【主权项】:
一种中子源,其特征在于,所述中子源包括多孔离子源(1)、初始聚焦电极(2)、加速电极(3)、四极透镜(5)、移动靶(6),多孔离子源(1)输出的离子束(4),通过初始聚焦电极(2)和加速电极(3)后获得额定能量,然后穿过四极透镜(5),形成扇形离子束,扇形离子束轰击移动靶(6),产生与等效焦斑(7)相同特性的出射方向中子束(8);所述的移动靶(6)的轰击面为斜面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所,未经中国工程物理研究院核物理与化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610397587.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top