[发明专利]石墨片及其制造方法有效
| 申请号： | 201610373450.4 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN106348287B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 西木直巳;西川和宏;北浦秀敏;田中笃志;中谷公明 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供不使用导热糊剂而接触电阻小的石墨片及其制造方法。本发明使用一种石墨片，该石墨片的表面粗糙度(Ra)为10μm以上且不足40μm，在上述石墨片的表面内的任意80mm的距离之间，距离80mm内的表面凹凸的变化率为0.01％以上且0.135％以下。另外，本发明使用一种石墨片的制造方法，其是将高分子膜在不活泼气体中进行热处理的石墨片的制造方法，对上述高分子膜进行的热处理在上述不活泼气体的气氛中温度为2400℃以上且3200℃以下，并且在温度为2000℃以上的条件下施以10kg/cm2以上且100kg/cm2以下的加压。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨片 不活泼气体 热处理 高分子膜 制造 导热 表面粗糙度 表面凹凸 接触电阻 变化率 糊剂 加压 | ||
【主权项】：
1.一种石墨片，其中，该石墨片的表面粗糙度Ra为10μm以上且不足40μm，在所述石墨片的表面内的任意的80mm的距离之间，距离80mm内的表面凹凸的变化率为0.01％以上且0.135％以下。
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