[发明专利]掩膜板及膜层的制备方法有效
申请号: | 201610371497.7 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN106019814B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 张玉虎;王军帽;聂彬;岳浩 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G03F1/42 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种掩膜板及膜层的制备方法,其中,掩膜板包括:面板掩膜区域和标识掩膜区域;所述标识掩膜区域,用于在膜层上形成标识码区域;所述标识掩膜区域包括至少一个对位标记图形,用于在膜层上形成标识码对位标记。膜层的制备方法,包括:在膜层上形成包含标识码对位标记的标识码区域;在所述标识码区域上形成标识码。本发明通过在掩膜板上形成用于在膜层上形成标识码区域的标识掩膜区域,且标识掩膜区域包括至少一个用于在膜层上形成标识码对位标记的对位标记图形,能够实现标识码ID与相应标识码区域的准确对位,提高打码效率,有效降低产品ID的NG风险。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,包括:面板掩膜区域和标识掩膜区域;所述标识掩膜区域,用于在膜层上形成标识码区域;所述标识掩膜区域包括至少一个对位标记图形,用于在膜层上形成标识码对位标记;所述对位标记图形包括平行于所述标识掩膜区域的边缘的至少一个第一标记图形以及与所述第一标记图形一一对应的第二标记图形,所述第二标记图形与对应的第一标记图形相交且具有预设夹角;所述第二标记图形上设置有刻度线,所述第二标记图形与所述第一标记图形的交点为初始刻度值,所述初始刻度值为当标识码中心点与标识码区域的中心点重合时,所述标识码的边缘到达相对的第一标记图形的距离。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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