[发明专利]一种旋转式冲洗烘干装置在审
| 申请号： | 201610366989.7 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN106024585A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 田英干;王文会;徐俊成;田一 | 申请（专利权）人： | 嘉兴晶装电子设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉兴市嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种旋转式冲洗烘干装置，包括：腔体单元、晶圆旋转单元、冲洗单元、烘干单元、静电去除单元。其特征在于：所述腔体单元为装置的本体结构，腔体单元在晶圆工艺时处于密闭状态，用于保持工艺时所需要的微环境状态；晶圆旋转单元安装于腔室内部，由电机带动进行旋转工艺过程；冲洗单元、烘干单元及静电去除单元安装于腔体单元上，用于晶圆在工艺过程中分别进行冲洗、烘干及静电去除。该旋转式冲洗烘干装置主要用于对晶圆进行冲洗、烘干等工艺过程。本发明的有益效果是：通过该旋转式冲洗烘干装置来对晶圆进行工艺过程，可以做到晶圆的清洗和烘干一次完成，工艺过程简单，提高了设备的生产效率，且成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 冲洗 烘干 装置 | ||
【主权项】：
一种旋转式冲洗烘干装置，包括：腔体单元、晶圆旋转单元、冲洗单元、烘干单元、静电去除单元。其特征在于：所述腔体单元为装置的本体结构，腔体单元在晶圆工艺时处于密闭状态，用于保持工艺时所需要的微环境状态；晶圆旋转单元安装于腔室内部，由电机带动进行旋转工艺过程；冲洗单元、烘干单元及静电去除单元安装于腔体单元上，用于晶圆在工艺过程中分别进行冲洗、烘干及静电去除。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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