[发明专利]金属膜的成膜方法有效
申请号: | 201610364429.8 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN106191815B | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 铃木健二;堀田隼史;前川浩治;饗场康 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种金属膜的成膜方法。在使用氯化物原料在具有复杂形状部分和平坦形状部分的被处理基板上形成金属膜的情况下,能够在任何部分都形成膜。在该金属膜的成膜方法中,隔着被保持在减压气氛下的腔室内的吹扫,在按顺序向腔室内供给作为原料气体的金属氯化物气体以及对金属氯化物进行还原的还原气体而在配置于所述腔室内的具有复杂形状部分和平坦形状部分的被处理基板形成金属膜时,交替地实施相对地减少金属氯化物原料的供给量而形成第一金属膜的工序和相对地增多金属氯化物原料的供给量而形成第二金属膜的工序。 | ||
搜索关键词: | 金属膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属膜的成膜方法,在该金属膜的成膜方法中,隔着被保持于减压气氛下的腔室内的吹扫,按顺序向所述腔室内供给作为原料气体的金属氯化物气体以及对金属氯化物进行还原的还原气体,而在配置于所述腔室内的具有复杂形状部分和平坦形状部分的被处理基板上形成金属膜,其特征在于,实施相对地减少所述金属氯化物气体的供给量而形成第一金属膜的工序和相对地增多所述金属氯化物气体的供给量而形成第二金属膜的工序,多次交替地实施形成所述第一金属膜的工序和形成所述第二金属膜的工序。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的