[发明专利]聚吡咯衍生物共价功能化石墨烯纳米杂合物非线性光学材料及其制备方法在审
| 申请号： | 201610357139.0 | 申请日： | 2016-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN106046371A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张弛;王爱健;钱军;龙凌亮;虞王 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C08G73/06 | 分类号： | C08G73/06;C08K3/04;G02F1/35;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米杂化非线性光学功能材料技术领域，具体涉及一类具有较好非线性光学吸收性能的聚吡咯衍生物功能化的石墨烯纳米杂合物非线性光学功能材料及其制备方法。本发明借助酯化和热还原反应将聚吡咯衍生物共价键联在石墨烯表面，通过二者之间的协同效应，改善石墨烯在极性有机溶剂中的溶解性和分散稳定性，并增强其非线性光学吸收性能。该制备方法易于实现，且所制备纳米杂化材料的非线性光学性能得以显著提高，具有重要的科学研究价值和潜在的实际应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 吡咯 衍生物 共价 功能 化石 纳米 杂合物 非线性 光学材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
聚吡咯衍生物共价功能化石墨烯的非线性光学材料，其特征在于，由还原氧化石墨烯和羟基化聚吡咯衍生物，所述羟基化聚吡咯衍生物以共价键修饰在还原氧化石墨烯表面，结构式为：![]()
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