[发明专利]光场成像设备及其制造方法有效
| 申请号： | 201610322114.7 | 申请日： | 2016-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN106899789B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 金钟殷 | 申请（专利权）人： | 爱思开海力士有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 李少丹;许伟群 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一个光场成像设备包括：图像传感器，具有二维布置在其中的多个像素；微透镜阵列，形成在图像传感器之上，所述微透镜阵列具有二维布置在其中的多个微透镜；以及多个支撑结构，形成在图像传感器与微透镜阵列之间以用于在它们之间提供空气隙。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光场成像设备，包括：图像传感器，具有二维布置在其中的多个像素；微透镜阵列，形成在图像传感器之上，所述微透镜阵列具有二维布置在其中的多个微透镜；以及多个支撑结构，形成在图像传感器与微透镜阵列之间以用于在它们之间提供空气隙。
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