[发明专利]组合光罩的版图结构及其形成方法、应用方法

摘要

本发明提供了一种组合光罩的版图结构及其形成方法和应用方法，所述组合光罩的版图结构，包括第一版图和第二版图；所述第一版图具有间隔排列的平行的第一线条；所述第二版图具有间隔排列的与所述第一线条垂直的第二线条。采用本发明提供的组合光罩的版图结构，通过改变工艺流程，不仅可用于形成矩形孔还可用于形成矩形岛。并且，本发明所采用的组合光罩的版图结构的结构较为简单，具有较大的光刻工艺窗口，因此可满足制作高密集度的孔阵列或岛阵列所需的分辨率。

主权项

一种组合光罩的版图结构，其特征在于：所述组合光罩的版图结构用于在半导体衬底上形成矩形孔或矩形岛，所述组合光罩的版图结构包括形成于第一光罩上的第一版图和形成于第二光罩上的第二版图，所述第一版图具有多个间隔排列且相互平行的第一线条，所述第二版图具有多个间隔排列且与所述第一线条垂直的第二线条。