[发明专利]一种背结晶硅异质结双面太阳电池及制备方法在审
| 申请号: | 201610311944.X | 申请日: | 2016-05-12 |
| 公开(公告)号: | CN105810771A | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
| 发明(设计)人: | 黄海宾;周浪;袁吉仁;高超;岳之浩;孙喜莲 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
| 主分类号: | H01L31/0747 | 分类号: | H01L31/0747;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
| 地址: | 330031 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | 一种背结晶硅异质结双面太阳电池及制备方法,其结构从迎光面开始依次为:迎光面栅线状电极、高透过率减反射薄膜、重掺杂晶体硅背场层、硅片、本征非晶硅基薄膜钝化层、重掺杂非晶硅薄膜发射极、透明导电薄膜层,背光面栅线状电极。先进行硅片的制绒清洗,然后依次制备重掺杂晶体硅背场层、高透过率减反射薄膜、迎光面栅线状电极;硅片的背光面再次清洗,再制备本征非晶硅基薄膜钝化层、重掺杂非晶硅薄膜发射极、透明导电薄膜层、背光面栅线状电极制备。相对于双面异质结HIT结构,本发明可增大太阳电池的短路电流,获得更高转换效率,减少了至少一半甚至全部ITO用量,减少了部分银用量,与现行晶体硅太阳电池产线技术兼容,减少了设备成本。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 结晶 硅异质结 双面 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种背结晶硅异质结双面太阳电池,其特征是其结构从迎光面开始依次为:迎光面栅线状电极、高透过率减反射薄膜、重掺杂晶体硅背场层、硅片、本征非晶硅基薄膜钝化层、重掺杂非晶硅薄膜发射极、透明导电薄膜层,背光面栅线状电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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