[发明专利]一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统有效
| 申请号： | 201610272054.2 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105714252B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王震;张清华;吴倩;罗晋;卫耀伟;潘峰;唐明;刘志超;郑轶;李树刚;张哲;欧阳升;汤鹏 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜材料 沉积 电子束光斑 光学薄膜 扫描控制 数据处理装置 电子束镀膜 扫描 扫描轨迹 坩埚 蒸发 熔化 表面平整度 光电探测器 光信号转化 升华 待镀元件 扫描区域 设备控制 优化调整 电子枪 可控性 有效地 预设 优化 采集 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜沉积扫描控制方法，应用于光学薄膜沉积扫描控制系统，其特征在于，所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的所述电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹，其中，所述扫描轨迹包括扫描图形和所述扫描图形中每个扫描点的光斑驻留时间；所述电子束镀膜设备控制电子束光斑在所述坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使所述镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610272054.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
