[发明专利]一种修整抛光机盘面的方法在审
| 申请号： | 201610267483.0 | 申请日： | 2016-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN105881215A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 徐浩;沈思情;刘浦锋;宋洪伟;陈猛 | 申请（专利权）人： | 上海超硅半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B53/06;B24B53/12;B24B53/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201604 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种修整抛光机盘面的方法，通过车刀的往复运动和研磨盘的圆周运动修整抛光机盘面形状，提高盘面平整度，进而提升抛光晶片的表面平整度。特别是修整前通过表面通热水、下盘通冷水来模拟抛光时的实际状况，使得修整出来的抛光盘形即是抛光时的盘形，为抛光工艺的调节和不同尺寸晶片的抛光带来方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修整 抛光机 盘面 方法 | ||
【主权项】：
一种修整抛光机盘面的方法：使用热水和冷水分别通入抛光盘上表面和下表面，维持抛光机盘面温度（根据实际抛光温度来定，一般30~40℃），模拟出实际抛光时的盘面状态；再通过车刀系统修整盘面，达到工艺要求（根据实际情况，一般是0±10um）；最后通过修整盘，去除表面毛刺，保证表面光洁。
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