[发明专利]用于光刻的罩面层组合物和方法在审
| 申请号： | 201610258327.8 | 申请日： | 2016-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN106094439A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | C-Y·洪;E-H·柳;M-K·蒋;D-Y·金;J·Y·安 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供适合施加在光致抗蚀剂组合物之上的面涂层组合物。优选的面涂层组合物包含第一聚合物，所述第一聚合物包含：(i)第一单元，其包含含氮部分，所述含氮部分包含酸不稳定基团；和(ii)第二单元，其(1)包含一个或多个疏水基团且(2)与所述第一单元不同。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 面层 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种适用于在光致抗蚀剂层上方形成层的组合物，所述组合物包含：(a)第一聚合物，其包含：(i)第一单元，其包含含氮部分，所述含氮部分包含酸不稳定基团；(ii)第二单元，其(1)包含一个或多个疏水基团且(2)与所述第一单元不同。
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