[发明专利]氮化钛沉积系统在审
| 申请号： | 201610250431.2 | 申请日： | 2016-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN105803423A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 万成;邰晓东;柳小敏;刘玮 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种氮化钛沉积系统，包括腔体组件和承载手臂，所述腔体组件可拆卸地安装于所述承载手臂。本发明使得承载手臂与腔室组件之间可拆卸安装，这样一来，在维护时，可以将整个腔室组件(Chamber Lid)整体拆除，将组装时间以及气室(Gas Box)等的清洁时间放到预防性维护过程之外，从而减少预防性维护所需时间，提高机台利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 沉积 系统 | ||
【主权项】：
一种氮化钛沉积系统，其特征在于：包括腔体组件和承载手臂，所述腔体组件可拆卸地安装于所述承载手臂。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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