[发明专利]光谱仪校准方法和参考材料有效

专利信息
申请号: 201610239570.5 申请日: 2016-04-18
公开(公告)号: CN106053354B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 吕卡·拉莫兰特 申请(专利权)人: 贺利氏电子耐特国际股份公司
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 王静;丁业平
地址: 比利时*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于光谱仪的校准方法和一种参考材料。本发明的目的是提供一种用于光谱仪的校准方法和一种有助于光谱仪的所述校准的参考材料。所述目的通过一种用于光谱仪校准的方法来解决,其中参考材料具有均质元素内容。此外,通过惰性涂层保护所述参考材料。所述参考材料用于所述光谱仪的校准。所述目的进一步通过一种具有由惰性涂层保护的均质元素内容的参考材料来解决。
搜索关键词: 光谱仪 校准 方法 参考 材料
【主权项】:
一种用于光谱仪的校准的方法,其特征在于,使用参考材料用于所述光谱仪的校准,其中所述参考材料具有由惰性涂层(2)保护的均质元素内容(1)。
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