[发明专利]一种在光学元件上制作涂镀层的方法及光学元件有效
| 申请号： | 201610232252.6 | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105738976B | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 王晓浩;周倩;胡海飞;李星辉;倪凯;燕鹏;张锦超;逄锦超 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/14;G02B27/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人： | 王震宇 |
| 地址： | 518055 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种在光学元件上制作涂镀层的方法，包括如下步骤鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较不同涂镀层厚度时光学元件的性能，分析不同涂镀层厚度对于光学元件的性能的影响，以确定最佳涂镀层厚度；基于所确定的最佳涂镀层厚度，在光学元件上制作涂镀层。还公开了一种具有涂镀层的光学元件。本发明能够克服以往光学元件表面按照经验确定涂镀层的厚度值的弊端，提高带涂镀层的光学元件的光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 制作 镀层 方法 | ||
【主权项】：
一种在光学元件上制作涂镀层的方法，其特征在于,包括如下步骤：鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较不同涂镀层厚度时光学元件的性能，分析不同涂镀层厚度对于光学元件的性能的影响，以确定最佳涂镀层厚度，所述最佳涂镀层厚度为不超过光学元件表面微细结构的最小凹形态尺寸的十分之一；基于所确定的最佳涂镀层厚度，在光学元件上制作涂镀层。
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