[发明专利]一种阵列基板、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201610231749.6 申请日: 2016-04-14
公开(公告)号: CN105826354A 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 鲍建东;闵天圭;朴春键;敖宁 申请(专利权)人: 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G09G3/3208
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 017000 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置,阵列基板包括衬底基板、位于衬底基板上的多个有机电致发光结构以及与各有机电致发光结构一一对应的多个增透结构,各增透结构位于对应的有机电致发光结构靠近阵列基板的出光侧的一侧,每个增透结构包括至少两层增透膜,增透膜可以使对应的有机电致发光结构发出的光分别在该增透膜的两个表面发生反射的两束反射光在发生干涉之后光强减弱,这样,通过使各有机电致发光结构发出的光在经过对应的增透结构时发生反射光干涉减弱来实现透射光干涉加强,即通过减少因反射而损失的光能相应增加透射光的强度,从而可以提高有机电致发光显示面板的出光效率。
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括:衬底基板以及位于所述衬底基板上的多个有机电致发光结构;其特征在于:所述阵列基板还包括:与各所述有机电致发光结构一一对应的多个增透结构;各所述增透结构位于对应的所述有机电致发光结构靠近所述阵列基板的出光侧的一侧;每个所述增透结构包括至少两层增透膜;所述增透膜用于使对应的所述有机电致发光结构发出的光分别在该增透膜的两个表面发生反射的两束反射光在发生干涉之后光强减弱。
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