[发明专利]用作治疗剂的螺-羟吲哚化合物的不对称合成在审

专利信息
申请号: 201610207838.7 申请日: 2013-03-11
公开(公告)号: CN105753877A 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 孙绍毅;傅健民;苏鲁旦·乔德亨瑞;伊凡·威廉·希穆恩;迈克尔·爱德华·格里姆伍德;泰里克·苏黑·曼索尔 申请(专利权)人: 泽农医药公司
主分类号: C07D491/20 分类号: C07D491/20;C07D209/34;C07D491/107
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;何可
地址: 加拿大不列*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要: 发明涉及某些螺‑羟吲哚衍生物的不对称合成,所述螺‑羟吲哚衍生物可用于治疗和/或预防诸如疼痛的钠通道介导的疾病或疾病状况。
搜索关键词: 用作 治疗 吲哚 化合物 不对称 合成
【主权项】:
制备式(I)的化合物或其药物可接受的盐的方法:所述式(I)的化合物为分离的(S)‑对映异构体,或具有大于80%的对映异构体过量的(S)‑对映异构体的对映异构体的非外消旋混合物;P和r各自独立地为1、2、3或4;R1为氢、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、芳基、环烷基、环烷基烷基、杂芳基、杂环基、‑R8‑C(O)R5、‑R8‑C(O)OR5、‑R8‑C(O)N(R4)R5、‑S(O)2‑R5、‑R9‑S(O)m‑R5(其中m为0、1或2)、‑R8‑OR5、‑R8‑CN、‑R9‑P(O)(OR5)2或‑R9‑O‑R9‑OR5;或者R1为被‑C(O)N(R6)R7取代的芳烷基,其中:R6为氢、烷基、芳基或芳烷基;且R7为氢、烷基、卤代烷基、‑R9‑CN、‑R9‑OR5、‑R9‑N(R4)R5、芳基、芳烷基、环烷基、环烷基烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基或杂芳基烷基;或者R6和R7与它们连接的氮一起形成N‑杂环基或N‑杂芳基;且其中R6和R7的各个芳基、芳烷基、环烷基、环烷基烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基可任选被一个或多个选自烷基、环烷基、芳基、芳烷基、卤素、卤代烷基、‑R8‑CN、‑R8‑OR5、杂环基和杂芳基的取代基取代;或者R1为任选被一个或多个选自‑R8‑OR5、‑C(O)OR5、卤素、卤代烷基、烷基、硝基、氰基、芳基、芳烷基、杂环基和杂芳基的取代基取代的芳烷基;或者R1为‑R9‑N(R10)R11、‑R9‑N(R12)C(O)R11或‑R9‑N(R10)C(O)N(R10)R11,其中:各个R10为氢、烷基、芳基、芳烷基或杂芳基;各个R11为氢、烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、‑R9‑OC(O)R5、‑R9‑C(O)OR5、‑R9‑C(O)N(R4)R5、‑R9‑C(O)R5、‑R9‑N(R4)R5、‑R9‑OR5,或‑R9‑CN;且R12为氢、烷基、芳基、芳烷基或‑C(O)R5;且其中R10和R11的各个芳基、芳烷基、环烷基、环烷基烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基可任选被一个或多个选自烷基、环烷基、芳基、芳烷基、卤素、卤代烷基、硝基、‑R8‑CN、‑R8‑OR5、‑R8‑C(O)R5、杂环基和杂芳基的取代基取代;或者R1为杂环基烷基或杂芳基烷基,其中所述杂环基烷基或杂芳基烷基任选被一个或多个选自氧代、烷基、卤素、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、‑R8‑OR5、‑R8‑C(O)OR5、‑R8‑N(R4)R5、‑R8‑C(O)N(R4)R5、‑R8‑N(R5)C(O)R4、‑R8‑S(O)mR4(其中m为0、1或2)、‑R8‑CN或‑R8‑NO2的取代基取代;各个R2独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、烷氧基、卤素、卤代烷基、卤代烯基、卤代烷氧基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、芳烯基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、‑R8‑CN、‑R8‑NO2、‑R8‑OR5、‑R8‑N(R4)R5、‑N=C(R4)R5、‑S(O)mR4、‑OS(O)2CF3、‑R8‑C(O)R4、‑C(S)R4、‑C(R4)2C(O)R5、‑R8‑C(O)OR4、‑C(S)OR4、‑R8‑C(O)N(R4)R5、‑C(S)N(R4)R5、‑N(R5)C(O)R4、‑N(R5)C(S)R4、‑N(R5)C(O)OR4、‑N(R5)C(S)OR4、‑N(R5)C(O)N(R4)R5、‑N(R5)C(S)N(R4)R5、‑N(R5)S(O)nR4、‑N(R5)S(O)nN(R4)R5、‑R8‑S(O)nN(R4)R5、‑N(R5)C(=NR5)N(R4)R5和‑N(R5)C(=N‑CN)N(R4)R5,其中各个m独立地为0、1或2且各个n独立地为1或2;且其中R2的各个环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、芳烯基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基可任选被一个或多个选自烷基、烯基、炔基、烷氧基、卤素、卤代烷基、卤代烯基、卤代烷氧基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、芳烯基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、‑R8‑CN、‑R8‑NO2、‑R8‑OR5、‑R8‑N(R4)R5、‑S(O)mR4、‑R8‑S(O)nN(R4)R5、‑R8‑C(O)R4、‑R8‑C(O)OR4、‑R8‑C(O)N(R4)R5、‑N(R5)C(O)R4和‑N(R5)S(O)nR4的取代基取代,其中各个m独立地为0、1或2且各个n独立地为1或2;或者任何两个相邻的R2与它们直接连接的相邻碳环原子一起可形成选自环烷基、芳基、杂环基和杂芳基的稠环,并且如果存在,其他R2如上所定义;各个R3独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、烷氧基、卤素、卤代烷基、卤代烯基、卤代烷氧基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、芳烯基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、‑R8‑CN、‑R8‑NO2、‑R8‑OR5、‑R8‑N(R4)R5、‑N=C(R4)R5、‑S(O)mR4、‑OS(O)2CF3、‑R8‑C(O)R4、‑C(S)R4、‑C(R4)2C(O)R5、‑R8‑C(O)OR4、‑C(S)OR4、‑R8‑C(O)N(R4)R5、‑C(S)N(R4)R5、‑N(R5)C(O)R4、‑N(R5)C(S)R4、‑N(R5)C(O)OR4、‑N(R5)C(S)OR4、‑N(R5)C(O)N(R4)R5、‑N(R5)C(S)N(R4)R5、‑N(R5)S(O)nR4、‑N(R5)S(O)nN(R4)R5、‑R8‑S(O)nN(R4)R5、‑N(R5)C(=NR5)N(R4)R5和‑N(R5)C(N=C(R4)R5)N(R4)R5,其中各个m独立地为0、1或2且各个n独立地为1或2;或者任何两个相邻的R3与它们直接连接的相邻碳环原子一起可形成选自环烷基、杂环基、芳基或杂芳基的稠环,并且如果存在,其他R3如上所定义;各个R4和R5独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、烷氧基烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基;或者当R4和R5各自与所述相同氮原子连接时,则R4和R5与它们连接氮原子一起可形成N‑杂环基或N‑杂芳基;各个R8为键或直链或支链亚烷基链、直链或支链亚烯基链或者直链或支链亚炔基链;且各个R9为直链或支链亚烷基链、直链或支链亚烯基链或者直链或支链亚炔基链;其中所述方法包括在适合的N‑烷基化条件下使用式(2)的化合物或其药物可接受的盐处理式(22)的化合物或其药物可接受的盐以提供上述式(I)的化合物:所述式(22)的化合物为分离的(S)‑对映异构体或具有大于80%的对映异构体过量的(S)‑对映异构体的对映异构体的非外消旋混合物;其中p、r、R2和R3各自如上述针对式(I)的化合物所描述的;X‑R1(2)其中X为卤素且R1为上述针对式(I)的化合物所描述的。
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