[发明专利]一种用于制备高分辨率α源的电沉积装置有效

专利信息
申请号: 201610196264.8 申请日: 2016-03-31
公开(公告)号: CN105821467B 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 徐利军;叶宏生;林敏;张卫东;夏文;陈克胜;陈义珍 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D17/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于放射源制备技术领域,公开了一种用于制备高分辨率α源的电沉积装置。该电沉积装置包括电源、电镀槽、底称、磁铁及铂电极;所述电镀槽为内外两层结构,内层上端和底部均设置有开口;电镀槽的内层用于盛装电沉积镀液,外层的对角处设置有冷却循环水进口和冷却循环水出口;所述内层上端的开口处设置有上密封圈及上方的上密封盖,内层底部的开口处分别设置有下密封圈及下方的下密封盖;所述底称作为阴极,紧贴于下密封圈中间的孔道下方;所述铂电极从电镀槽内层上端的径向中心位置处伸入至距离电镀槽底部0.5cm~1cm的位置处。该装置制备的α源具有电沉积效率高、镀层致密、均匀性好且沉积厚度小的有益效果。
搜索关键词: 一种 用于 制备 高分辨率 沉积 装置
【主权项】:
一种用于制备高分辨率α源的电沉积装置,其特征在于,该电沉积装置包括电源、电镀槽、底称、磁铁及铂电极;所述电镀槽的材质为玻璃,其为内外两层结构,内层上端和底部均设置有开口;所述电镀槽的内层用于盛装电沉积镀液,外层的对角处设置有冷却循环水进口和冷却循环水出口,外层内壁和内层外壁间为冷却循环水流经的通道;所述内层上端的开口处设置有上密封圈及上方的上密封盖,内层底部的开口处分别设置有下密封圈及下方的下密封盖;上密封盖、上密封圈、电镀槽内层、下密封圈及下密封盖之间形成贯穿的孔道;上密封盖和下密封盖之间通过螺栓连接;下密封盖的孔道处设置有螺口;所述底称作为阴极,紧贴于下密封圈中间的孔道下方;底称下方设置有垫片,垫片下方设置有固定栓,该固定栓与下密封盖通过螺纹连接以将底称固定;所述垫片、固定栓、螺栓均可导电;所述铂电极从电镀槽内层上端的径向中心位置处伸入至距离电镀槽底部0.5cm~1cm的位置处;所述电源的正极通过阳极连接线与铂电极上端连接;电源负极通过阴极连接线与上密封盖和下密封盖之间的螺栓连接,避免了阴极连接线直接与底称连接;所述磁铁为径向磁铁,其为永磁体,高度与电镀槽高度一致;该径向磁铁相对于电镀槽中心位置处的磁场强度为0.6T~1T,距离电镀槽一侧1~5cm处,所述铂电极与搅拌电机连接,电沉积过程中铂电极的转速为40~60转/分。
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