[发明专利]透明导电性膜有效
| 申请号： | 201610190000.1 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN106024109B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 爱泽和人;荒添铁也;大类知生;所司悟 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社;美思菲林股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G02B1/11;G06F3/041 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张桂霞;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供低折射率层的耐蚀刻性优异、可稳定地将透明导电层的图案形状不可见化、并且与透明导电层等之间的粘附性优异的透明导电层形成用层合体和使用该层合体的透明导电性膜。所述透明导电层形成用层合体等在基材膜的至少一侧的表面具有光学调整层，其中，光学调整层是从基材膜侧将折射率为1.6以上的值的高折射率层和折射率为1.45以下的值的低折射率层依次进行层合而成的，而且，低折射率层含有二氧化硅微粒，并且将低折射率层的露出面侧的不存在二氧化硅微粒的空隙的比例设为15%以上的值。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 | ||
【主权项】：
1.透明导电层形成用层合体，其是在基材膜的至少一侧的表面具有光学调整层的透明导电层形成用层合体，其特征在于，在上述基材膜的两面或一面设置硬质涂层，上述光学调整层是从上述基材膜侧将折射率为1.6以上的值的高折射率层和折射率为1.45以下的值的低折射率层依次进行层合而成的，而且，上述低折射率层含有二氧化硅微粒，并且将上述低折射率层的露出面侧的不存在上述二氧化硅微粒的空隙的比例设为15%以上的值，将上述低折射率层的表面自由能设为37mN/m以上的值。
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