[发明专利]一种真空蒸发镀膜装置在审
| 申请号： | 201610189702.8 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN106032567A | 公开（公告）日： | 2016-10-19 |
| 发明（设计）人： | 同建辉;李卫东;孙婧 | 申请（专利权）人： | 天津众伟科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300000 天津市北*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明属于金属镀膜技术领域，尤其涉及一种真空蒸发镀膜装置，包括镀膜装置、真空装置、蒸发装置，所述镀膜装置包括基板加热器、基板、薄膜，所述真空装置包括钟罩、真空腔、排气系统，所述蒸发装置包括蒸发源和膜材，本发明解决了附着力较小、不容易获得结晶结构、工艺重复性差的问题，具有提高装置的实用性、蒸发高熔点材料、提高了薄膜的纯度和质量、热效率高，热传导和热辐射损失小、适用于真空蒸发镀膜技术领域的有益技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 蒸发 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于，包括镀膜装置、真空装置、蒸发装置，所述镀膜装置包括基板加热器、基板、薄膜，所述真空装置包括钟罩、真空腔、排气系统，所述蒸发装置包括蒸发源和膜材，所述蒸发源包括膜材容器和设置于膜材容器内的膜材加热器，所述真空装置内顶端设置的镀膜装置经真空装置连接于其底端设置蒸发装置，设置于钟罩内的真空腔的自顶端向下依次设置基板加热器、基板、薄膜，其底端设置膜材容器，所述基板加热器经基板连接于薄膜，所述钟罩经真空腔贯通于排气系统，所述膜材加热器经膜材容器连接于膜材，设置于膜材容器内的膜材经膜材加热器加热为膜材蒸气，所述膜材蒸气蒸发于基板下的薄膜。
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