[发明专利]薄膜生长腔室和薄膜生长设备

摘要

本发明提供了一种薄膜生长腔室和薄膜生长设备，该薄膜生长腔室为环形腔室；环形腔室内具有至少一个托盘放置区，托盘放置区用于放置承载有待生长薄膜的基片的扇形托盘；环形腔室的顶面具有至少一个进气结构，进气结构包括进气孔和与进气孔连接的扇形匀气装置，每一匀气装置位于至少一个托盘放置区的上方，匀气装置用于将进气孔通入的气体均匀喷放到下方的托盘放置区，以使托盘放置区放置的扇形托盘承载的基片表面生成均匀的薄膜。本发明中的环形腔室可以无限制地扩大，只要环形腔室扩大区域的顶面上设置有进气结构，就能提供满足薄膜均匀生长需求的均匀气体，从而能够提高薄膜生长设备的产能。

主权项

一种薄膜生长腔室，其特征在于，所述薄膜生长腔室为环形腔室；所述环形腔室内具有至少一个托盘放置区，所述托盘放置区用于放置承载有至少一个待生长薄膜的基片的扇形托盘；所述环形腔室的顶面具有至少一个进气结构，所述进气结构包括进气孔和与所述进气孔连接的扇形匀气装置，每一所述匀气装置位于至少一个所述托盘放置区的上方，所述匀气装置用于将所述进气孔通入的气体均匀喷放到下方的托盘放置区，以使所述托盘放置区放置的扇形托盘承载的基片表面生成均匀的薄膜。