[发明专利]一种发光二极管芯片及其制备方法有效
申请号: | 201610149628.7 | 申请日: | 2016-03-16 |
公开(公告)号: | CN105826439B | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 卫婷;闫晓红;叶青贤;齐胜利;沈燕;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/38;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管芯片包括衬底、以及依次层叠在衬底上的N型GAN层、发光层、P型GAN层,P型GAN层上开设有延伸到N型GAN层的凹槽,P型GAN层上设有依次层叠的电流阻挡层和透明导电层,透明导电层内设有延伸到P型GAN层的通孔,通孔内设有P型电极,N型GAN层上设有N型电极,透明导电层和N型GaN层上层叠有钝化层,P型电极为圆柱体,P型电极的直径小于通孔的直径。本发明通过增大P型电极与P型GaN层之间的接触面积,P型电极能良好附着在P型GAN层上,有效避免P型电极脱落,提高LED芯片的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管芯片,所述发光二极管芯片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的N型GaN 层、发光层、P型GaN 层,所述P型GaN 层上开设有延伸到所述N型GaN 层的凹槽,所述P型GaN 层上设有依次层叠的电流阻挡层和透明导电层,所述透明导电层内设有延伸到所述P型GaN 层的通孔,所述通孔内设有P型电极,所述N型GaN 层上设有N型电极,所述透明导电层和所述N型GaN层上层叠有钝化层,其特征在于,所述P型电极为圆柱体,所述P型电极的直径小于所述通孔的直径;所述透明导电层上设有P型电极引线,所述P型电极引线包括与所述P型电极连接的P型连接段、以及从所述P型连接段向所述N型电极延伸的P型延伸段,所述P型连接段的宽度大于所述P型延伸段的宽度。
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