[发明专利]化学机械抛光多区压力在线控制算法有效

专利信息
申请号: 201610139592.4 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN105773397B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 李弘恺;田芳馨;吴云龙;林达义;王同庆;李昆;路新春 申请(专利权)人: 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
主分类号: B24B37/005 分类号: B24B37/005;B24B49/16
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 代理人: 张大威
地址: 300350 天津市津*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种化学机械抛光多区压力在线控制算法,包括以下步骤分别获取抛光头的各压力分区的零点偏移量;根据抛光头的各压力分区的零点偏移量,分别对CMP抛光头系统的各路气压传感器的测量值进行修正,并将修正后的测量值作为各路气压传感器的最终输出值;计算各路气压传感器的最终输出值与对应压力分区的预设压力值之间的偏差量;根据偏差量实时计算CMP抛光头系统的相应电气比例阀的控制量;根据控制量对相应电气比例阀的开度进行控制。本发明的控制算法简便有效,方便调节,同时具有较强的适应能力。
搜索关键词: 化学 机械抛光 压力 在线 控制 算法
【主权项】:
一种化学机械抛光多区压力在线控制算法,其特征在于,包括以下步骤:分别获取所述抛光头的各压力分区的零点偏移量;根据所述抛光头的各压力分区的零点偏移量,分别对CMP抛光头系统的各路气压传感器的测量值进行修正,并将修正后的测量值作为所述各路气压传感器的最终输出值;计算所述各路气压传感器的最终输出值与对应压力分区的预设压力值之间的偏差量;根据所述偏差量实时计算所述CMP抛光头系统的相应电气比例阀的控制量;以及根据所述控制量对所述相应电气比例阀的开度进行控制,其中,采用增量式PI控制算法,即将当前计算得到的控制增量与上一时刻计算得到的控制量之和作为所述相应电气比例阀的当前控制量,其中控制增量的计算公式为:Δu(n)=Kp·Δe(n)+αKi′e(n),其中,定义Kp为比例项系数,Ki′作为改良后的积分项系数,Δe(n)为气压传感器的最终输出值与对应压力分区的预设压力值之间的当前偏差量e(n)和上一时刻偏差量e(n‑1)的差值,α为变积分增益系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津华海清科机电科技有限公司;清华大学,未经天津华海清科机电科技有限公司;清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610139592.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top