[发明专利]具有多个溅射源的反应溅射在审

专利信息
申请号: 201610136387.2 申请日: 2010-04-23
公开(公告)号: CN105568242A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: M.杜布斯;K.鲁姆;H.罗尔曼 申请(专利权)人: 欧瑞康先进科技股份公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50;H01J37/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈岚
地址: 列支敦士*** 国省代码: 列支敦士登;LI
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摘要: 本申请涉及具有多个溅射源的反应溅射。用于通过反应溅射来涂覆衬底(14)的设备(1)包括轴(8);关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11,12),以及连接到目标(11,12)的电源,其中目标能交替地作为阴极和阳极工作。该方法为制造涂覆的衬底(14)的方法,其通过在包括轴(8)的设备(1)中进行反应溅射来涂覆衬底(14)。该方法包括:a)提供待涂覆的衬底(14);b)提供关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11,12);c)在涂覆期间交替地操作所述目标(11,12)作为阴极和阳极。优选地,在溅射期间旋转目标(11,12)和/或目标被同心地布置,且最内部的圆形目标被至少一个环形外部目标包围。
搜索关键词: 具有 溅射 反应
【主权项】:
一种用于通过反应溅射来涂覆衬底(14)的设备(1),包括轴(8);关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11, 12);用于运载所述衬底(14)的衬底运载器(5);以及用于绕所述轴(8)旋转所述衬底运载器(5)的装置;以及连接到所述目标(11, 12)的电源(15),其中电源被配置成交替地操作所述目标作为阴极和阳极,以使得当一个目标被操作为阳极的同时,一个或多个其它目标被操作为阴极。
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