[发明专利]发光器件、发光装置以及检测装置有效
| 申请号: | 201610119500.6 | 申请日: | 2016-03-03 |
| 公开(公告)号: | CN105972474B | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
| 发明(设计)人: | 稻田安寿 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21K9/20;H05B33/02;H01L33/50;G03B21/20;F21Y115/10;F21Y115/30 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: |
本发明提供能控制亮度、指向性或偏振特性的具有新型结构的发光器件、发光装置和检测装置。发光器件具有光致发光层和形成在该光致发光层或透光层中至少一者的至少一个周期结构。该周期结构包含多个凸部和多个凹部中至少一者,该光致发光层发出的光包括空气中波长为λ |
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| 搜索关键词: | 发光 器件 装置 以及 检测 | ||
【主权项】:
一种发光器件,其具有:光致发光层;透光层,该透光层以与所述光致发光层接近的方式配置;以及至少一个周期结构,该至少一个周期结构形成在所述光致发光层和所述透光层中的至少一者上,其中,所述周期结构包含多个凸部和多个凹部中的至少一者,所述光致发光层所发出的光包括空气中的波长为λa的第一光,当将相邻的凸部之间或凹部之间的距离设定为Dint、将所述光致发光层对所述第一光的折射率设定为nwav‑a时,成立λa/nwav‑a<Dint<λa的关系,经由所述周期结构向与所述光致发光层垂直的方向射出的光的光谱中强度达到峰值的波长A从所述光致发光层所包含的光致发光材料的发光光谱中强度达到峰值的波长B偏离。
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