[发明专利]一种铸铁搪瓷件的生产工艺有效

专利信息
申请号: 201610110017.1 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105755468B 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 康振祥;黄福根;陶应红;谢跃武 申请(专利权)人: 广东康业电器有限公司;四会市维力有限公司
主分类号: C23D11/00 分类号: C23D11/00;C03C8/16
代理公司: 佛山市名诚专利商标事务所(普通合伙)44293 代理人: 熊强强
地址: 528300 广东省佛山市顺*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种对铸铁材质的铸件进行搪瓷瓷釉的生产工艺。它包括铸件选取灰口铸铁作为铸件,灰口铸铁的金相结构为以铁素体为基体,带有小尺寸的石墨均匀分布。底釉的搪瓷采用浸搪和补喷的方法,使底釉厚度均匀附着在铸件表面,底釉厚度保持在150‑250微米。面釉的搪瓷采用浸搪和加喷的工艺,使面釉均匀附着在完成G步骤的铸件表面,面釉厚度在120‑200微米.本发明终于通过了腐蚀性极强的0.5%柠檬酸水溶液为介质的EDQM要求测试。通过此工艺搪瓷铸铁件,化学性能稳定,各种金属不易析出,符合食品安全要求。
搜索关键词: 一种 铸铁 搪瓷 生产工艺
【主权项】:
一种铸铁搪瓷件的生产工艺,其特征在于:A.铸件:选取灰口铸铁作为铸件,灰口铸铁的金相结构为以铁素体为基体,带有小尺寸的石墨均匀分布;灰口铸铁含五大元素成分重量百分比:碳3.2‑3.6% ,硅2.2‑2.8%,锰0.5‑0.6%,磷0.1‑0.4% 硫〈0.1%;B.清砂:将铸件表面的型砂和氧化层抛干净,显出银白色;C.打磨:磨掉铸件上的坯峰和毛刺等,使表面光滑;D.退火:在加热装置中将铸件在700‑850度温度下以1.3‑1.7米/分的速度退火,时间为12‑17分钟;E.抛丸:使铸件表面呈银白色,表面均匀粗糙;F.底釉的搪瓷:采用浸搪和补喷的方法,使底釉厚度均匀附着在铸件表面,底釉厚度保持在150‑250微米;底釉的各成分重量百分比为:WL‑10号瓷釉58‑62%,石英砂4‑6%,粘土2‑4%,亚硝酸钠0.01‑0.03%,硼砂0.01‑0.03%,水27‑33%;其中:WL‑10号瓷釉主要成分重量百分比为:二氧化硅43‑47%,氧化钴0.4‑0.6%,氧化镍0.2‑0.4%,氧化锂1‑3%,三氧化二硼17‑19%,氧化钠和氧化钾18‑20%,碳酸镁 4‑6%,三氧化二铁3‑5%,二氧化锰3‑4%,氧化钙2‑3%;G.底釉的烧成:将完成F步骤的铸件置入温度为700‑800度加热装置中以线速度1.5‑2.2米/分钟通过加热区域,通过时间为10—13分钟;H.面釉的搪瓷:采用浸搪和加喷的工艺,使面釉均匀附着在完成G步骤的铸件表面,面釉厚度在120‑200微米, 面釉的各成分重量百分比是:WL‑21瓷釉31‑33%,WL‑9瓷釉13‑15%,WL‑6瓷釉12‑13%,无钴色素0.5‑0.6%,石英砂8‑10%,粘土2‑3%,亚硝酸钠0.1‑0.2%,硼砂0.1‑0.2%,水28‑30%;其中WL‑21瓷釉主要成分重量百分比为:二氧化硅44‑46%,三氧化二铝1‑3%,三氧化二硼18‑20%,氧化钠和氧化钾19‑21% ,氧化镁1‑3% ,碳酸锶 1‑2% ,五氧化二钒 0.4‑0.6% ,碳酸铯0.4‑0.6%;其中WL‑9瓷釉主要成分重量百分比为:二氧化硅42‑44%,三氧化二铝4‑6%,三氧化二硼17‑19%,三氧化二铁1‑2%,氧化钙1‑2% ,氧化镁1‑2%,氧化钼1‑3% ,氧化钠和氧化钾18‑20%;其中WL‑6瓷釉主要成分重量百分比为:二氧化硅37‑39% ,二氧化钛 2‑4%,三氧化二铝23‑25%, 三氧化二硼11‑13%,氧化镁5‑7%,氧化锂4‑6%,氧化钠和氧化钾17‑19% ;I.面釉的烧成 将完成H步骤的铸件置入温度为700‑760度加热装置中以线速度1.5‑2.2米/分钟通过加热装置,通过时间为8—12分钟;J.成品检测。
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