[发明专利]掩膜版及掩膜曝光方法、掩膜系统和图形控制装置

摘要

本发明涉及一种掩膜版及掩膜曝光方法、掩膜系统和图形控制装置。本发明提供的掩膜版，具有图形控制层，该图形控制层包括透光单元、与各个透过单元相连的控制电路；所述控制电路与各个透光单元相连，用于控制每一个透光单元在透光状态和不透光状态之间进行转换，以形成不同的掩膜图案。这样就可以通过控制电路对各个透光单元进行控制，使得该掩膜版能够提供不同的掩膜图形，从而使得该掩膜版应用于不同的图案化工艺中，从而降低开发制作掩膜版所需的成本。并且本发明中，通过在所述图形控制层的出光方向或入光方向上设置用于将接收到的光线转换为平行光线后出射的光线转换层，能够很好的控制光线入射到被曝光的基板上的位置，从而提高曝光精度。

主权项

1.一种掩膜版，其特征在于，包括图形控制层和光线转换层；所述图形控制层包括多个透光单元和控制电路；所述控制电路与各个透光单元相连，用于控制每一个透光单元在透光状态和不透光状态之间进行转换，以形成不同的掩膜图案；所述光线转换层设置在所述图形控制层的出光方向或入光方向上，用于将入射的光线转换为平行光线后出射；所述光线转换层包括第一转换层、第二转换层和第三转换层；所述第二转换层位于所述第一转换层的出光方向上，所述第三转换层位于所述第二转换层的出光方向上；所述第一转换层采用磨面设计，用于将入射到所述第一转换层的光线发散为面光源并出射到所述第二转换层上；所述第二转换层用于将第一转换层出射的光线汇聚为多个点光源投射到所述第三转换层；所述第三转换层包含多个透镜；多个透镜与各个点光源一一对应，用于将对应的点光源出射的光线转换为平行光线出射到所述图形控制层。