[发明专利]含银薄膜的蚀刻液组合物和使用了其的显示装置用阵列基板的制造方法在审
| 申请号： | 201610102113.1 | 申请日： | 2016-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN105951101A | 公开（公告）日： | 2016-09-21 |
| 发明（设计）人： | 沈庆辅;权玟廷;金泰完;安基熏;张晌勋 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人： | 钟锦舜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及包含磷酸、硝酸、醋酸、磷酸盐、硝酸盐和/或醋酸盐、和脱离子水的含银薄膜的蚀刻液组合物、使用了其的显示装置用阵列基板的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 蚀刻 组合 使用 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
含银薄膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，包含：磷酸40～60重量％；硝酸3～8重量％；醋酸5～20重量％；磷酸盐0.1～3重量％；选自硝酸盐0.1～3重量％和醋酸盐0.1～3重量％中的1种以上的盐；和脱离子水余量。
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