[发明专利]用于光刻图案化的方法有效
| 申请号： | 201610088332.9 | 申请日： | 2016-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN106483776B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 刘朕与;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 光刻图案化的方法，所述方法包括在衬底上方形成材料层；将材料层的部分暴露于辐射；以及在显影剂中去除所述材料层的暴露部分，产生图案化的材料层。显影剂包括有机溶剂和碱性溶质，其中，以重量计，所述有机溶剂多于所述显影剂的50％。在一个实施例中，所述显影剂还包括以重量计，小于50％的所述显影剂的水。本发明实施例涉及用于光刻的新显影剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 显影剂 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻图案化的方法，包括：/n在衬底上方形成材料层；/n将所述材料层的部分暴露于辐射；以及/n在正色调显影剂中去除所述材料层的暴露的部分，产生图案化的材料层，其中，所述正色调显影剂包括有机溶剂和碱性溶质，并且其中，以重量计，所述有机溶剂大于所述正色调显影剂的50％。/n
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