[发明专利]一种高压水刀辅助定位装置在审
申请号: | 201610046623.1 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN105538414A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 禹伟 | 申请(专利权)人: | 禹伟 |
主分类号: | B26F3/00 | 分类号: | B26F3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 233000 安徽省蚌埠*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种高压水刀辅助定位装置,其特征在于,所述的高压水刀辅助定位装置包含一上固定基板和一下固定基板,所述的上固定基板与所述的下固定基板的四角上分别设有一活动导杆,所述的下固定基板上设有一对第一调节缸体,所述的上固定基板的下表面上设有一第二调节缸体,所述的下固定基板的中心设有一定位圆孔,所述的定位圆孔的一侧设有一对固定圆孔,所述的下固定基板的上下两侧分别设有一固定支架,所述的固定支架上分别设有一对感应探头。由于下固定基板的上下两侧均设有感应探头,能有效克服水刀产生的水雾对感应探头所产生的影响,大大提高了水刀切割的精度,结构简单,成本低廉,实用性强。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 辅助 定位 装置 | ||
【主权项】:
一种高压水刀辅助定位装置,其特征在于,所述的高压水刀辅助定位装置(1)包含一上固定基板(2)和一下固定基板(3),所述的上固定基板(2)与所述的下固定基板(3)的四角上分别设有一活动导杆(4),所述的下固定基板(3)上设有一对第一调节缸体(5),所述的上固定基板(2)的下表面上设有一第二调节缸体(6),所述的下固定基板(3)的中心设有一定位圆孔(31),所述的定位圆孔(31)的一侧设有一对固定圆孔(32),所述的下固定基板(3)的上下两侧分别设有一固定支架(7),所述的固定支架(7)上分别设有一对感应探头(8),所述的固定支架(7)包含一纵向设置的第一固定基片(71)和一横向设置的第二固定基片(72),所述的第一固定基片(71)上设有一贯穿的长圆形的调节圆槽(73),所述的第二固定基片(72)上设有一对连接圆孔(74),一对连接螺钉(9)分别贯穿所述的固定圆孔(32)和连接圆孔(74),并与连接螺帽(10)相连接,所述的感应探头(8)分别贯穿所述的调节圆槽(73)并与一探头螺帽(11)相连接。
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