[发明专利]一种光敏性纳米二氧化硅及其制备方法在审
申请号: | 201610031628.7 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN105670038A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 苏萃;周勇;曹诣宇;董侠;刘学新;王笃金 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C08K9/06 | 分类号: | C08K9/06;C08K3/36;C09D7/12 |
代理公司: | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人: | 另婧 |
地址: | 100190 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明涉及一种光敏性纳米二氧化硅及其制备方法。本发明所述的光敏性纳米二氧化硅的表面上包含下式的共价键合基团: |
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搜索关键词: | 一种 光敏 纳米 二氧化硅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种光敏性纳米二氧化硅,其特征在于,所述的光敏性纳米二氧化硅的表面上包含下式的共价键合基团:
其中,R1和R2彼此独立的是羟基、乙氧基或纳米颗粒表面‑O‑Si‑。
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