[发明专利]晶片模组及其制造方法有效
申请号: | 201610027343.6 | 申请日: | 2016-01-15 |
公开(公告)号: | CN105810600B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 姚皓然;温英男;刘建宏 | 申请(专利权)人: | 精材科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/49 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 中国台湾桃园市中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种晶片模组及其制造方法,该晶片模组包括:一晶片,具有一上表面、一下表面及一侧壁,且包括一信号接垫区邻近于上表面;一凹口,沿着晶片的侧壁自上表面朝下表面延伸;一重布线层,电性连接信号接垫区且延伸至凹口内;一电路板,位于晶片的上表面与下表面之间,且延伸至凹口内;以及一导电结构,位于凹口内,且将电路板电性连接至重布线层。本发明不仅能够防止形成接线易造成的短路或断线的问题,还能够避免因接线突出的高度而使得晶片模组具有不平坦的接触表面以及感测灵敏度降低的问题,且能够简化制程、降低制程时间及生产成本。 | ||
搜索关键词: | 晶片 模组 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶片模组,其特征在于,包括:一晶片,具有一上表面、一下表面及一侧壁,且包括一信号接垫区邻近于该上表面;一凹口,沿着该侧壁自该上表面朝该下表面延伸;一重布线层,电性连接该信号接垫区且延伸至该凹口内;一电路板,位于该上表面与该下表面之间,且延伸至该凹口内;以及一导电结构,位于该凹口内,且将该电路板电性连接至该重布线层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精材科技股份有限公司,未经精材科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610027343.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种测试荧光薄片的方法
- 下一篇:一种扇出型封装结构及其封装方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造