[发明专利]一种对位标记结构、掩模板、基板以及对位方法在审
| 申请号： | 201610006052.9 | 申请日： | 2016-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN105549320A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 李冬伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对位标记结构、掩模板、基板以及掩膜板和基板的对位方法，所述对位标记结构，包括：设置于掩模板上的至少两个第一对位标记和至少两个第二对位标记，所述第一对位标记的图形尺寸大于所述第二对位标记的图形尺寸；设置于基板上的至少两个第三对位标记和至少两个第四对位标记，所述第三对位标记和所述第一对位标记的数量和位置一一对应，所述第四对位标记和所述第二对位标记的数量和位置一一对应。本发明公开的对位标记结构，在OLED显示器件的像素图案蒸镀过程中，能够使掩模板和基板高精准度对位，提高了对位效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 标记 结构 模板 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种对位标记结构，应于掩膜板和基板上，所述掩模板具有图形区和包围图形区的非图形区，其特征在于，包括：设置于掩模板上的至少两个第一对位标记和至少两个第二对位标记，所述第一对位标记的图形尺寸大于所述第二对位标记的图形尺寸；设置于基板上的至少两个第三对位标记和至少两个第四对位标记，所述第三对位标记和所述第一对位标记的数量和位置一一对应，所述第四对位标记和所述第二对位标记的数量和位置一一对应。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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