[发明专利]用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具、用于在至少一个基板上溅射沉积的设备和用于在至少一个基板上溅射沉积的方法在审
| 申请号： | 201580081040.6 | 申请日： | 2015-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN107709606A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·凯勒;安德烈·布鲁宁;尤韦·施尤比勒;托马斯·沃纳·兹巴于尔;斯蒂芬·班格特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/56;H01J37/32;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具(100)。载具(100)包括载具主体(102)及在载具主体(102)处提供的绝缘部分。此绝缘部分提供电绝缘材料的表面(103)，其中表面(103)被构造为在溅射沉积处理期间面向一个或多个溅射沉积源。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 沉积 处理 期间 支撑 至少 一个 基板上 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具，所述载具包含：载具主体；及在所述载具主体处提供的绝缘部分，其中所述绝缘部分提供电绝缘材料的表面，其中所述表面被构造为在所述溅射沉积处理期间面向一个或多个溅射沉积源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580081040.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：虚拟现实头盔绑带调节结构
- 下一篇：一种自主即时储能释能省力长靴
- 同类专利
- 专利分类
