[发明专利]用于在光刻系统中转移基材的加载锁定系统和方法

摘要

本发明涉及用于将基材转移入光刻装置(301)中的真空腔室中以及从光刻装置中的真空腔室转移的装置和方法。加载锁定系统包括：加载锁定腔室(310)以及转移装置，加载锁定腔室设置有开口(311)，用于允许基材通过而进出加载锁定腔室，转移装置包括至少部分地布置在加载锁定腔室中的子框架、通过其近端连接至子框架的臂、以及连接至臂的远端的基材接纳单元。臂包括至少三个铰接臂部分，其中，第一臂部分和第二臂部分通过其近端铰接地连接至子框架。第三臂部分铰接地连接至第一臂部分和第二臂部分的远端。各臂部分被布置成形成四连杆机构。

主权项

一种用于将基材转移入和转移出光刻系统的加载锁定系统，所述加载锁定系统包括：加载锁定腔室，所述加载锁定腔室中设置有开口，用于允许基材通过而从所述加载锁定腔室内至所述加载锁定腔室的外部，以及转移装置，所述转移装置包括至少部分地布置在所述加载锁定腔室内的子框架、通过其近端连接至所述子框架的臂、以及连接至所述臂的远端的基材接纳单元，其中，所述臂包括至少三个铰接臂部分，其中，所述三个铰接臂部分中的第一臂部分和第二臂部分通过所述第一臂部分和所述第二臂部分的近端铰接地连接至所述子框架，且其中，所述三个铰接臂部分中的第三臂部分分别铰接地连接至所述第一臂部分和所述第二臂部分的远端，其中，所述至少三个铰接臂部分被布置为形成至少四连杆机构，该四连杆机构布置成以预定的转移运动引导所述臂，用于使所述基材接纳单元的至少一部分运动通过所述开口。