[发明专利]多模式深度成像在审

专利信息
申请号: 201580072915.6 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN107110971A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: A·内维特;D·科恩;G·叶海弗;D·丹尼尔 申请(专利权)人: 微软技术许可有限责任公司
主分类号: G01S17/02 分类号: G01S17/02;G01S17/89;H04N13/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 蔡悦,胡利鸣
地址: 美国华*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种成像系统包括具有间隔一固定距离的第一和第二成像阵列、第一和第二驱动器、以及经调制的光源。所述第一成像阵列包括分布在多个强度响应像素上的多个相位响应像素;所述经调制的光源被配置成在所述第一成像阵列的视野中发射经调制的光。所述第一驱动器被配置成调制来自所述经调制的光源的光输出并且同步地控制来自所述相位响应像素的电荷收集。所述第二驱动器被配置成识别所述第一成像阵列的强度响应像素和所述第二成像阵列的对应的强度响应像素之间的差异。
搜索关键词: 模式 深度 成像
【主权项】:
一种成像系统,包括:第一成像阵列,所述第一成像阵列包括分布在多个强度响应像素上的多个相位响应像素;经调制的光源,所述经调制的光源被配置成在所述第一成像阵列的视野中发射经调制的光;第一驱动器,所述第一驱动器被配置成调制所述光并且同步地控制来自所述相位响应像素的电荷收集以提供飞行时间深度估计;强度响应像素的第二成像阵列,所述第二成像阵列被布置成与所述第一成像阵列相距一固定距离;以及第二驱动器,所述第二驱动器被配置成识别所述第一成像阵列的强度响应像素和所述第二成像阵列的对应的强度响应像素之间的差异来提供立体光学深度估计。
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