[发明专利]包括集成的通风系统的离子植入机

摘要

本发明描述一种离子植入系统，其包含：离子植入机，所述离子植入机包括壳体，所述壳体界定封围容积，在所述封围容积中定位有气体箱，所述气体箱经配置以固持一或多个气体供应容器，所述气体箱与所述封围容积中在所述气体箱外部的气体进行受限式气体流动连通；第一通风组合件，其经配置以使通风气体流动通过所述壳体，并且从所述壳体排出所述通气气体到所述离子植入机的周围环境；第二通风组合件，其经配置以将气体从所述气体箱排出到处理设备，所述处理设备适于从所述气体箱排气至少部分地移除污染物，或者所述处理设备适于稀释所述气体箱排气，以产生经处理的流出气体，所述第二通风组合件包括可变流量控制装置及运动流体驱动器，所述可变流量控制装置用于在相对较低的气体箱排气流率与相对较高的气体箱排气流率之间调整所述气体箱排气的流率，且所述运动流体驱动器适于使所述气体箱排气流动通过所述可变流量控制装置到所述理设备；以及监测及控制组合件，其经配置以监测所述离子植入机的操作是否发生气体危险事件，且当发生气体危险事件时，响应地阻止所述一或多个气体供应容器的气体分配操作，并且调整所述可变流量控制装置到所述相对较高的气体箱排气流率，使得所述运动流体驱动器以所述相对较高的气体箱排气流率使所述气体箱排气流动到所述处理设备。优选地，在气体危险事件中，从所述壳体排放的所述壳排气也终止，以促进所述壳体内、所述气体箱的内部以及外部的所有气体排出到所述处理单元。

主权项

1.一种离子植入系统，其包括：离子植入机，其包括壳体，所述壳体界定封围容积，在所述封围容积中定位有气体箱，所述气体箱经配置以固持一或多个气体供应容器，所述气体箱与所述封围容积中在所述气体箱外部的气体进行受限式气体流动连通；第一通风组合件，其经配置以使通风气体流动通过所述壳体，并且将所述通风气体从所述壳体排出到所述离子植入机的周围环境；第二通风组合件，其经配置以将气体从所述气体箱排出到处理设备，所述处理设备适于从所述气体箱排气至少部分地移除污染物，或者所述处理设备适于稀释所述气体箱排气，以产生经处理的流出气体，所述第二通风组合件包括可变流量控制装置及运动流体驱动器，所述可变流量控制装置用于在相对较低的气体箱排气流率与相对较高的气体箱排气流率之间调整所述气体箱排气的流率，且所述运动流体驱动器适于使所述气体箱排气流动通过所述可变流量控制装置到所述处理设备；及监测及控制组合件，其经配置以监测所述离子植入机的操作是否发生气体危险事件，且当发生气体危险事件时，响应地阻止所述一或多个气体供应容器的气体分配操作，并且调整所述可变流量控制装置到所述相对较高的气体箱排气流率，使得所述运动流体驱动器以所述相对较高的气体箱排气流率来使所述气体箱排气流动到所述处理设备，其中所述监测及控制组合件包括气体流动管线，所述气体流动管线是可耦合以将所述离子植入系统的真空腔室与所述第二通风组合件互连，从而在由操作、检验或维修人员使用所述真空腔室期间使所述真空腔室通风。