[发明专利]用于半导体工艺的主动式衬底对准系统及对准衬底的方法有效
| 申请号： | 201580049321.3 | 申请日： | 2015-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN107078012B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 亚隆·P·威波;提摩西·J·米勒;泰美·州·普赖德;克里斯多夫·N·葛兰特;詹姆斯·D·史瑞斯奈;查理斯·T·卡尔森 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/304 | 分类号： | H01J37/304;H01J37/317;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统以及一种对准衬底的方法，衬底系统包含压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像；以及控制器，其与相机和对齐装置通信，控制器可以经配置以命令对齐装置基于图像移动衬底接合表面，以用预定的方式限制衬底的移动。本发明使用上述系统使衬底定向，以使得投射到衬底上的掺杂剂图案将置中于衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 主动 衬底 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统，其特征在于，包括：压板；对齐装置，其经调适以选择性地移动邻近于所述压板安置的衬底接合表面，用于限制安置在所述压板上的衬底的移动；相机，其经配置以在所述衬底安置在压板上之前获取所述衬底的图像；以及控制器，其与所述相机和所述对齐装置通信，所述控制器可以经配置以命令所述对齐装置基于所述图像移动所述衬底接合表面，以用预定的方式限制所述衬底的移动。
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