[发明专利]光催化涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201580046240.8 | 申请日： | 2015-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN106794450B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | R·穆克尔吉 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B01J23/888 | 分类号： | B01J23/888;B01J37/34;B01J37/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;牛蔚然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述了用光催化化合物涂覆基底的方法以及通过这些方法制备的光催化元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光催化 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备光催化元件的方法，所述方法包括：(a)用无机硅氧化物前体溶液对基底进行涂覆，所述无机硅氧化物前体溶液包含主要具有笼形特征的硅倍半氧烷和溶剂；(b)在足以除去所述溶剂并保持硅倍半氧烷笼形特征的温度下对所述经涂覆的基底进行第一固化；(c)用包含光催化材料的分散体系对所述经涂覆的基底进行涂覆，以形成经多次涂覆的基底；和(d)在足以将所述光催化材料的至少一部分固定在所述经涂覆的基底的表面上的温度下，对所述经多次涂覆的基底进行第二固化；(e)其中，作为所述第一固化或所述第二固化的结果，所述硅倍半氧烷中的至少一些被转化以与所述基底产生二氧化硅界面。
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