[发明专利]具有部分吸收层的双层层系统和制造该层的方法和溅射靶有效

专利信息
申请号: 201580044608.7 申请日: 2015-05-18
公开(公告)号: CN106660865B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 马丁·施洛特;阿尔伯特·卡斯特纳;马库斯·舒尔特海斯;詹斯·瓦格纳 申请(专利权)人: 万腾荣先进材料德国有限责任公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/34;G02B5/22
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张天舒;张杰
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 已知的双层的层系统包括背向观察者的光学吸收的金属层和面向观察者的覆盖层。用作吸收剂层的覆盖层相对较厚并且表现出尽可能高的吸收系数。为了尽可能简单地设计该层系统的制造过程,并且给出在向溅射气氛中并未添加或很少添加反应气体的情况下进行的溅射沉积方法,本发明提出,该覆盖层成型为光学部分吸收层,该层在550nm的波长下具有小于0.7的吸收系数kappa和在30至55nm范围内的厚度。
搜索关键词: 具有 部分 吸收 双层 系统 制造 方法 溅射
【主权项】:
一种双层的层系统,所述层系统由背向观察者的金属层和面向观察者的覆盖层制成,其特征在于,所述覆盖层成型为光学的部分吸收层,所述覆盖层具有30至55nm范围内的厚度以及在550nm的波长下小于0.7的吸收系数kappa。
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