[发明专利]利用电荷注入的读出电路的结构有效

专利信息
申请号: 201580030693.1 申请日: 2015-06-12
公开(公告)号: CN106415842B 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: Y·倪 申请(专利权)人: 新成像技术公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/3745
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;黄岳巍
地址: 法国韦里*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种读出电路结构,其形成在第一类型的半导体衬底(1)上,并且旨在根据连续的电荷积分周期来测量从在衬底(1)外部的外部电荷源(2)接收的电荷,所述结构包括:注入二极管,其配置为将从外部的电荷源(2)接收的电荷注入到衬底(1)中;收集二极管,其适合于在衬底(1)中收集通过注入二极管注入的电荷的至少一部分,并且适合于在积分周期期间积累所述电荷;电荷恢复结构(7),其配置为恢复积累在所述收集二极管中的电荷;用于通过所述电荷恢复结构的电势还原为初始电势而在每个积分周期结束时将电荷恢复结构(7)初始化的装置。
搜索关键词: 利用 电荷 注入 读出 电路 结构
【主权项】:
1.一种读出电路结构,其形成在第一类型的半导体衬底(1)上,并且旨在根据连续的电荷积分周期来测量从在衬底(1)的外部的电荷源(2)接收到的电荷,所述结构包括:·注入二极管,其在衬底(1)中通过第一正向偏置PN结形成,所述第一正向偏置PN结包括衬底(1)的第二类型的第一掺杂区域(4),所述第一掺杂区域(4)用于从所述外部的电荷源(2)接收电荷,并且所述注入二极管配置为用于将从外部的电荷源(2)接收到的电荷注入到衬底(1)中,·收集二极管,其在衬底(1)中由第二PN结形成,所述第二PN结包括隐埋在衬底(1)中的第二类型的第二掺杂区域(6),并且所述收集二极管能够在衬底(1)中收集通过注入二极管而注入的电荷的至少一部分,并且能够在积分周期期间积累这些电荷,·电荷恢复结构,其配置为用于恢复在形成于衬底(1)中的所述收集二极管中积累的电荷,·用于通过将所述电荷恢复结构的电势改变回至初始电势而在每个积分周期结束时初始化电荷恢复结构的装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新成像技术公司,未经新成像技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580030693.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top