[发明专利]利用电荷注入的读出电路的结构有效
| 申请号: | 201580030693.1 | 申请日: | 2015-06-12 |
| 公开(公告)号: | CN106415842B | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
| 发明(设计)人: | Y·倪 | 申请(专利权)人: | 新成像技术公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/3745 |
| 代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;黄岳巍 |
| 地址: | 法国韦里*** | 国省代码: | 法国;FR |
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| 摘要: | 本发明涉及一种读出电路结构,其形成在第一类型的半导体衬底(1)上,并且旨在根据连续的电荷积分周期来测量从在衬底(1)外部的外部电荷源(2)接收的电荷,所述结构包括:注入二极管,其配置为将从外部的电荷源(2)接收的电荷注入到衬底(1)中;收集二极管,其适合于在衬底(1)中收集通过注入二极管注入的电荷的至少一部分,并且适合于在积分周期期间积累所述电荷;电荷恢复结构(7),其配置为恢复积累在所述收集二极管中的电荷;用于通过所述电荷恢复结构的电势还原为初始电势而在每个积分周期结束时将电荷恢复结构(7)初始化的装置。 | ||
| 搜索关键词: | 利用 电荷 注入 读出 电路 结构 | ||
【主权项】:
1.一种读出电路结构,其形成在第一类型的半导体衬底(1)上,并且旨在根据连续的电荷积分周期来测量从在衬底(1)的外部的电荷源(2)接收到的电荷,所述结构包括:·注入二极管,其在衬底(1)中通过第一正向偏置PN结形成,所述第一正向偏置PN结包括衬底(1)的第二类型的第一掺杂区域(4),所述第一掺杂区域(4)用于从所述外部的电荷源(2)接收电荷,并且所述注入二极管配置为用于将从外部的电荷源(2)接收到的电荷注入到衬底(1)中,·收集二极管,其在衬底(1)中由第二PN结形成,所述第二PN结包括隐埋在衬底(1)中的第二类型的第二掺杂区域(6),并且所述收集二极管能够在衬底(1)中收集通过注入二极管而注入的电荷的至少一部分,并且能够在积分周期期间积累这些电荷,·电荷恢复结构,其配置为用于恢复在形成于衬底(1)中的所述收集二极管中积累的电荷,·用于通过将所述电荷恢复结构的电势改变回至初始电势而在每个积分周期结束时初始化电荷恢复结构的装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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