[发明专利]具有多重模式抗疼痛活性的1‑氧杂‑4,9‑二氮杂螺十一烷化合物的烷基与芳基衍生物在审

专利信息
申请号: 201580029243.0 申请日: 2015-06-02
公开(公告)号: CN106459093A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 玛丽娜·比尔希利-贝尔纳多;莫妮卡·阿隆索-哈尔马;卡洛斯·阿莱格雷特-莫利纳;卡门·阿尔曼萨-罗萨莱斯;莫妮卡·加西亚·洛佩斯 申请(专利权)人: 埃斯蒂文博士实验室股份有限公司
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00;C07D498/10;A61K31/5386;A61P29/00;A61P25/04
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 张英;宫传芝
地址: 西班牙巴*** 国省代码: 西班牙;ES
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摘要: 发明涉及具有针对西格马(σ)受体及μ‑类鸦片受体的双重药理学活性的通式(I)化合物,并且更具体地,涉及具有此药理学活性的二氮杂螺十一烷化合物;此类化合物的制备方法;包含它们的药物组合物;及它们在疗法,具体地,治疗疼痛中的用途。
搜索关键词: 具有 多重 模式 疼痛 活性 氧杂 二氮杂螺 十一 化合物 烷基 衍生物
【主权项】:
一种式I的化合物其中Y为Z为‑CH2‑、‑C(O)‑或‑CHR9‑;m为0或1;n为1、2或3;q为1、2、3、4、5或6;R1为经取代或未经取代芳基、经取代或未经取代杂环基、经取代或未经取代烷基芳基、经取代或未经取代烷基杂环基或‑(CH2)r‑W‑R1';r为0、1或2;W为一键、‑CH2O‑、‑CH2C(O)NR5'‑、‑CH2C(O)O‑、‑CH2C(O)‑或‑C(CH3)2O‑;R1'为H、‑CN、经取代或未经取代杂环基、经取代或未经取代芳基、经取代或未经取代环烷基或R5;其中R1或R1'中的芳基、杂环基或环烷基若经取代,则也在烷基芳基或烷基杂环基中经选自以下的取代基取代:‑R5、‑OR5、卤素、‑CN、‑NO2、‑NR5R5”'、‑C(O)OR5、NR5C(O)R5'、‑C(O)NR5R5'、‑NR5S(O)2R5'、=O、‑OCH2CH2OH、‑NR5C(O)NR5'R5”、‑S(O)2NR5R5'、‑NR5S(O)2NR5'R5”、卤烷基、卤烷氧基、‑SR5、‑S(O)R5或‑S(O)2R5;X为一键、‑C(O)O‑、‑C(O)NR5‑、‑C(O)‑、‑O‑或‑C(R4R4')‑;R2为H、经取代或未经取代芳基、经取代或未经取代杂环基、经取代或未经取代环烷基、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基或经取代或未经取代C2‑6炔基;其中R2中的芳基、杂环基或环烷基若经取代,则也在烷基芳基、烷基环烷基或烷基杂环基中经选自以下的取代基取代:‑R5、‑OR5、卤素、‑CN、‑NO2、‑NR5R5”'、‑C(O)OR5、‑NR5C(O)R5'、‑C(O)NR5R5'、‑NR5S(O)2R5'、=O、‑OCH2CH2OH、‑NR5C(O)NR5'R5”、‑S(O)2NR5R5'、‑NR5S(O)2NR5'R5”、卤烷基、‑卤烷氧基、‑SR5、‑S(O)R5或‑S(O)2R5;R3及R3'独立地选自H、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基、经取代或未经取代C2‑6炔基、经取代或未经取代环烷基、经取代或未经取代芳基、经取代或未经取代杂环基、经取代或未经取代烷基芳基、经取代或未经取代烷基杂环基及经取代或未经取代烷基环烷基;其中如R3中所定义的芳基、环烷基及杂环基若经取代,则也在烷基芳基、烷基环烷基或烷基杂环基中经选自‑OR5、卤素、‑CN、卤烷基、卤烷氧基、‑SR5、‑S(O)R5或‑S(O)2R5的取代基取代;R4为H、‑OR5、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基、经取代或未经取代C2‑6炔基、‑COOR5、‑CONR5R5'、‑NR5COR5'、‑NR5R5”'或经取代或未经取代杂环基、经取代或未经取代芳基、经取代或未经取代环烷基,其中如R4中所定义的芳基、环烷基及杂环基若经取代,则经选自以下的取代基取代:‑OR5、卤素、‑CN、卤烷基、卤烷氧基、‑SR5、‑S(O)R5或‑S(O)2R5;R4'为H、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基或经取代或未经取代C2‑6炔基;R5、R5'及R5”独立地选自H、未经取代C1‑6烷基、未经取代C2‑6烯基、未经取代C2‑6炔基、未经取代芳基或未经取代烷基芳基;R5”'为H、未经取代C1‑6烷基、未经取代C2‑6烯基、未经取代C2‑6炔基或‑Boc;R6、R6'、R7及R7'独立地选自H、卤素、‑OR5、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基、经取代或未经取代C2‑6炔基、未经取代杂环基、未经取代芳基及未经取代环烷基;R8及R8'独立地选自H、‑OR5、卤素、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基或经取代或未经取代C2‑6炔基;R9是选自H、经取代或未经取代C1‑6烷基、经取代或未经取代C2‑6烯基或经取代或未经取代C2‑6炔基;且其中如R1、R1'、R2、R3、R3'、R4、R4'、R6、R6'、R7、R7'、R8、R8'及R9中所定义的烷基、烯基及炔基若经取代,则经选自以下的取代基取代:‑OR5、卤素、‑CN、卤烷基、卤烷氧基、‑SR5、‑S(O)R5、‑S(O)2R5、C(O)OR5或C(O)NR5R5';任选地呈一种立体异构体,优选为对映异构体或非对映异构体形式、外消旋体或呈至少两种立体异构体,优选对映异构体和/或非对映异构体的任何混合比率的混合物形式、或其对应盐或其对应溶剂合物,其条件为当W为一键时,则R1'不可为H、未经取代烷基、未经取代烯基、未经取代炔基或经取代或未经取代环烷基;通式I不包括以下化合物:
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