[发明专利]1;3-二取代环丁烷-1;2;3;4-四羧酸及其酸二酐的新型制造方法有效
| 申请号： | 201580024397.0 | 申请日： | 2015-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN106458825B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 近藤章一;岸川遥;田所真介;小泽征巳 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C51/353 | 分类号： | C07C51/353;C07C61/04;C07D213/18;C07D493/04;C07B61/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
提供以高选择性和高收率制造1,3‑二取代环丁烷‑1,2,3,4‑四羧酸(2)及其酸二酐(3)的方法。通过获得由含氮有机化合物(5)与式(4C)或式(4M)所示的乙烯二羧酸衍生物形成的晶体(1)的工序(a)、以及对所得晶体(1)照射光而进行环化反应的工序(b)，从而制造1,3‑二取代环丁烷‑1,2,3,4‑四羧酸(2)，将其在后续工序(c)的脱水缩合反应中用作原料，从而制造其酸二酐(3)。(上述式中，R1表示C1～C4烷基、苯基或卤素原子。) |
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| 搜索关键词： | 取代 丁烷 羧酸 及其 酸二酐 新型 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.用式(2)表示的1,3‑二取代环丁烷‑1,2,3,4‑四羧酸的制造方法，其具有下述工序(a)和工序(b)：![]()
R1表示C1～C4烷基、苯基或卤素原子，工序(a)：在存在或不存在溶剂的条件下，制造由含氮有机化合物(5)与式(4C)或式(4M)所示的乙烯二羧酸衍生物形成的晶体(1)的工序，![]()
R1表示与上述式(2)中相同的意义；工序(b)：对通过工序(a)得到的晶体(1)照射光而进行环化反应的工序。
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