[发明专利]微元件制造方法及由该方法形成的元件

摘要

本发明公开了一种形成多层次元件的方法，所述元件具有第一层次的第一表面部分和第二层次的第二表面部分，所述第二层次的层次不同于所述第一层次的层次，所述方法包括下列步骤通过一种或多种光刻法在掩模材料中以预定布置形成至少一种微槽的布置或其间具有微槽的微柱的布置，其中一个或多个所述微槽具有第一纵横比，并且一个或多个所述微槽具有不同于所述第一纵横比的第二纵横比；对其上施加有所述掩模的元件表面施加一种或多种蚀刻法，其中所述元件通过纵横比决定蚀刻(ARDE)方法进行蚀刻，以便形成微槽的布置和相邻微槽之间微柱的布置；其中在不同于元件的所述表面的第一层次蚀刻对应于所述第一纵横比的微槽的一个或多个微槽，并且其中在不同于元件的所述表面的第二层次蚀刻对应于所述第二纵横比的微槽的一个或多个微槽，并且所述第二层次不同于所述第一层次；以及(iii)通过移除处理从所述元件移除所述微柱的布置；其中在移除所述微柱后，在所述第一层次形成第一表面部分并在所述第二层次形成第二表面部分，其中所述第二表面部分所处的层次与所述第一表面部分所处的层次不同。

主权项

一种形成多层次元件的方法，所述元件具有第一层次的第一表面部分和第二层次的第二表面部分，所述第二层次的层次不同于所述第一层次的层次，所述方法包括下列步骤：(i)通过一种或多种光刻法在掩模材料中以预定布置形成至少一种微槽的布置或其间具有微槽的微柱的布置，其中一个或多个所述微槽具有第一纵横比，以及一个或多个所述微槽具有不同于所述第一纵横比的第二纵横比；(ii)对其上施加有所述掩模的元件的表面施加一种或多种蚀刻法，其中所述元件通过纵横比决定蚀刻(ARDE)方法进行蚀刻，以便形成微槽的布置和相邻微槽之间微柱的布置；其中在不同于元件的所述表面的第一层次蚀刻对应于所述第一纵横比的微槽的一个或多个微槽，并且其中在不同于元件的所述表面的第二层次蚀刻对应于所述第二纵横比的微槽的一个或多个微槽，所述第二层次的层次不同于所述第一层次的层次；以及(iii)通过移除处理从所述元件移除所述微柱的布置；其中在移除所述微柱后，在所述第一层次形成第一表面部分，以及在所述第二层次形成第二表面部分，其中所述第二表面部分所处的层次与所述第一表面部分所处的层次不同。