[发明专利]掺杂Ce的PZT系压电膜在审
申请号: | 201580015884.0 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN106133933A | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 土井利浩;樱井英章;曽山信幸 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01L41/187 | 分类号: | H01L41/187;C01G25/00;H01L41/318 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的掺杂Ce的PZT系压电膜由以通式:PbzCexZryTi1‑yO3表示的掺杂Ce的复合金属氧化物构成。并且,上述通式中的x、y及z分别满足0.005≤x≤0.05、0.40≤y≤0.55及0.95≤z≤1.15。而且,上述掺杂Ce的PZT系压电膜的极化量的磁滞优选由其中心向负侧偏移4kV/cm以上。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 ce pzt 压电 | ||
【主权项】:
一种掺杂Ce的PZT系压电膜,其由以通式:PbzCexZryTi1‑yO3表示的掺杂Ce的复合金属氧化物构成,所述通式中的x、y及z分别满足0.005≤x≤0.05、0.40≤y≤0.55及0.95≤z≤1.15。
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