[发明专利]发光装置有效
| 申请号： | 201580012233.6 | 申请日： | 2015-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN106105388B | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 中田昌孝;阿部贵征;千田尚之 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | H05B33/02 | 分类号： | H05B33/02;H01L51/50;H05B33/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘倜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种起因于裂缝的不良得到降低的柔性装置。另外，提供一种生产率高的柔性装置。另外，提供一种即使保持在高温高湿环境下也不容易产生显示不良的柔性装置。一种发光装置，该发光装置包括第一柔性衬底、第二柔性衬底、缓冲层、第一裂缝抑制层以及发光元件，第一柔性衬底的第一面和第二柔性衬底的第二面相对，缓冲层及第一裂缝抑制层设置在第一柔性衬底的第一面上，缓冲层和第一裂缝抑制层相互重叠，发光元件设置在第二柔性衬底的第二面上。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，包括第一柔性衬底、第二柔性衬底、第一缓冲层、第一裂缝抑制层、发光元件以及密封剂，其中所述第一柔性衬底的第一面和所述第二柔性衬底的第二面相对，所述第一柔性衬底使用所述密封剂与所述第二柔性衬底接合，在从垂直于所述第一面的方向看时，所述第一裂缝抑制层设置在所述密封剂与所述第一柔性衬底的侧面之间，所述第一缓冲层及所述第一裂缝抑制层设置在所述第一柔性衬底的所述第一面上，所述第一缓冲层和所述第一裂缝抑制层重叠，并且所述发光元件设置在所述第二柔性衬底的所述第二面上。
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